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等离子体化学气相沉积

发布时间:2017-11-16  浏览次数:640


商品规格:PECVD 等离子体化学气相沉积-II型
商品简述:等离子体化学气相沉积该产品具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统,动态衬底温控,控制真空系统,采用集中现场控制总线技术的nobody控制软件,以及友好用户操作界面来操作。


商品用途:该系统主要用于:1.等离子诱导表面改性;2.等离子清洗;3.等离子聚合;4.表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、等离子体化学气相沉积类金刚石等多种薄膜;



等离子体化学气象沉积技术参数:


型  号

流量控制

清洗镀膜RF功率

管径

最大式样尺寸 in

加热区

最高

温度

外形尺寸mm

功率

重 量

 

 

 

(外)mm

 

长度mm

 

 

Kg(约)

NBD-PECVD1200-80ITD2Z

两路质量流量计

20~200W可调

Φ60Φ80

2~3″

200

1200℃

1300

1260

820

AC220V

4kw

360

*可非标定制,欢迎来电垂询!

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